La cible produit les photons X ; l’applicateur délimite le faisceau d’électrons.
★ À maîtriser
📌 Les collisions inélastiques avec les électrons atomiques provoquent ionisation et excitation et constituent une perte par collision, tandis que les collisions élastiques avec les électrons ou les noyaux changent la direction sans perte d’énergie.
📌 Les collisions inélastiques avec les noyaux produisent un rayonnement de freinage et une perte radiative, qui augmente avec l’énergie de l’électron et le numéro atomique du matériau.
Compléments
📌 Le parcours développé R est la longueur totale de la trajectoire brisée d’un électron, le parcours projeté Rp en est la composante parallèle à la direction incidente et le parcours latéral Rl en est la composante perpendiculaire.
Collision : perte d’énergie ; diffusion élastique : changement de direction sans perte d’énergie.
★ À maîtriser
📌 Dans un faisceau d’électrons, l’énergie diminue avec la profondeur tandis que la fluence reste constante ; dans un faisceau de photons, l’énergie reste constante tandis que la fluence diminue.
La dose à la surface représente 70 % à 90 % de la dose maximale pour les faisceaux d’électrons, contre 10 % à 25 % pour les faisceaux de photons.
Après la dose maximale, la dose diminue rapidement avec la diminution du nombre d’électrons primaires, puis la région terminale est contaminée par les rayons X de freinage produits dans la tête et le milieu.
Compléments
📐 Formule - La dose à la profondeur z s’obtient en multipliant l’ionisation mesurée à cette profondeur par le rapport des pouvoirs d’arrêt massiques : .
Dose : montée jusqu’au maximum, chute rapide, puis région terminale contaminée par les rayons X.
★ À maîtriser
📌 Dans un faisceau étroit, les électrons diffusés sortent en majorité du faisceau et la dose décroît rapidement avec la profondeur ; dans un faisceau large, l’équilibre de diffusion latérale est atteint et la dose sur l’axe devient indépendante de la taille du champ.
Compléments
La contamination indiquée est de 0,5 à 1 % entre 6 et 12 MeV, de 1 à 2 % entre 12 et 15 MeV et de 2 à 5 % entre 15 et 20 MeV.
Quand la distance source-entrée du milieu diminue, la profondeur de dose maximale se rapproche de la surface, surtout aux faibles énergies, et la dose de surface augmente à cause des électrons de contamination.
Énergie accrue → pénétration accrue ; champ réduit → équilibre latéral réduit.
📌 À la fenêtre de sortie, le spectre énergétique est étroit ; à la surface du fantôme, il est élargi par les interactions dans la tête et l’air ; en profondeur, il est très étalé.
Fenêtre de sortie → surface du fantôme → profondeur : le spectre s’élargit.
★ À maîtriser
📐 Formule - Pour les photons, la variation de dose entre deux distances à la source suit la loi de l’inverse du carré des distances : .
📌 La loi de l’inverse du carré s’applique si la source est ponctuelle, si l’émission est isotrope et si les particules émises ne subissent aucune interaction.
📐 Formule - Le facteur d’ouverture du collimateur pour une énergie donnée est le rapport de la dose pour un champ de dimension A à la dose pour le champ de référence de 10 × 10 cm² : .
Compléments
La position de la source virtuelle se détermine en mesurant la dose à la profondeur de dose maximale pour plusieurs valeurs du gap d’air.
Le facteur d’ouverture du collimateur doit être mesuré pour chaque énergie et chaque applicateur, ainsi que pour les champs irréguliers définis par un insert en plomb.
Photons : source ponctuelle ; électrons : source virtuelle.
★ À maîtriser
Un profil exprime la dose en pourcentage de la dose de référence, généralement mesurée à la profondeur de dose maximale.
La pénombre des faisceaux d’électrons augmente quand l’énergie diminue, car l’angle de diffusion des électrons dans le milieu augmente ; elle reste beaucoup plus faible que celle des photons.
Compléments
Diffusion et source fictive → pénombre, qui s’élargit avec la profondeur et le champ.
★ À maîtriser
Pour une obliquité supérieure à 30°, la dose de surface augmente, surtout à faible énergie, tandis que la profondeur de dose maximale et R85 diminuent.
Une hétérogénéité perturbe la distribution de dose en modifiant l’absorption et la diffusion des électrons, qui dépendent de la densité et du numéro atomique du milieu ; la perturbation dépend aussi de l’énergie incidente et de la position de l’hétérogénéité.
Compléments
Avec un faisceau oblique, le point le plus proche de la surface reçoit davantage de diffusion latérale provenant du pinceau étroit adjacent, tandis que le point plus profond en reçoit moins.
Hors axe, l’obliquité produit une dose plus élevée et une pénombre plus étroite du côté où la surface d’entrée est la plus proche de l’applicateur, tandis que la pente est moins marquée à haute énergie.
Obliquité supérieure à 30° → dose de surface accrue et maximum rapproché.
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